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Borohydrure d'hafnium

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Borohydrure d'hafnium

Structure du borohydrure d'hafnium
Identification
No CAS 37274-93-4
PubChem 135232588
Propriétés chimiques
Formule H16B4HfHf(BH4)4
Masse molaire[1] 237,86 ± 0,05 g/mol
H 6,78 %, B 18,18 %, Hf 75,04 %,

Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire.

Le borohydrure d'hafnium est un composé chimique de formule Hf(BH4)4. Il s'agit d'un complexe d'hafnium(IV) et d'ions tétrahydruroborate(III) BH4. C'est le plus volatil des composés de l'hafnium[2], ce qui en fait un précurseur de choix pour la production de diborure d'hafnium HfB2 par dépôt chimique en phase vapeur (CVD)[3],[4],[5].

Notes et références

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  1. Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
  2. (en) H. R. Hoekstra, J. J. Katz, « The Preparation and Properties of the Group IV-B Metal Borohydrides », Journal of the American Chemical Society, vol. 71, no 7,‎ , p. 2488-2492 (lire en ligne) DOI 10.1021/ja01175a073
  3. (en) S. T. Schwab, C. A. Stewart, K. W. Dudeck, S. M. Kozmina, J. D. Katz, B. Bartram, E. J. Wuchina, W. J. Kroenke et G. Courtin, « Polymeric precursors to refractory metal borides », Journal of Materials Science, vol. 39, no 19,‎ , p. 6051-6055 (lire en ligne) DOI 10.1023/B:JMSC.0000041701.01103.41
  4. (en) Sreenivas Jayaraman, Yu Yang, Do Young Kim, Gregory S. Girolami et John R. Abelson, « Hafnium diboride thin films by chemical vapor deposition from a single source precursor », Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, vol. 23, no 6,‎ , p. 1619-1625 DOI 10.1116/1.2049307
  5. (en) Yu Yang, Sreenivas Jayaraman, Do Young Kim, Gregory S. Girolami et John R. Abelson, « Crystalline texture in hafnium diboride thin films grown by chemical vapor deposition », Journal of Crystal Growth, vol. 294, no 2,‎ , p. 389-395 (lire en ligne) DOI 10.1016/j.jcrysgro.2006.05.035