基本介紹
- 中文名:AE電源
- 外文名:Advanced Energy
- 國家:美國
- 實質:大功率開關電源產品
直流電源 | 低/中頻系列 | 網路匹配器 | 射頻系列 | 射頻測量儀器 |
直流脈衝產品套件 PINNACLE 系列 Pinnacle Plus+ Pinnacle3000 Pinnacle Diamond™ MDX 系列 500 W MDX 系列 1 kW 與 1.5 kW ® | Navigator 數位字匹配系統網路 VarioMatch™ | GenCal |
優勢 | 特點 |
功能廣泛 靈活的直流脈衝附屬檔案系列 通過允許在更大功率下運行,提高吞吐量 減少靶材污染 提高 10-200kW 的功率 提供 2-100kHz 的固定和可變頻率 | 出色的弧控制——在很多情況下,弧完全被消除。 離子能量更高 更大功率運行 基材溫度更低 靶材溫度更低 工藝靈活性和寬容度 系統整合容易 雙陰極功能(Astral® 產品) |
優勢 | 特點 |
最低的運行和安裝成本 業界最快的弧反應時間 可配置的弧反應參數 最大的工藝效率 精確的工藝控制 | 最低的存儲能量——每千瓦輸出不到 1mJ 無需調節輸出變壓器 4:1的阻抗範圍 靶材處理時間——最大限度地縮短新靶材的處理時間 ±0.1%的輸出重複性 Joule 模式——最最佳化的能量傳送 |
優勢 | 特點 |
更高的沉積率與產品率 薄膜均勻性和品質一流 成弧造成的基材損壞減少 成本更低 系統整合容易 極佳的工藝靈活性和寬容度 重複性能 在過度曲線上運行穩定 吞吐量更高 便於監控 無與倫比的系統靈活性 | 一個緊湊型封裝 頻率調節範圍為 5-350kHz 占空比高達45% 電壓範圍寬——單輸出寬阻抗範圍 大功率運行 基材溫度低 單輸出(5kW 和 10kW 型號) 用於雙陰極生產的雙輸出(雙路5kW 型號) 絕佳的弧控制 反應性濺射閉環控制 |
優勢 | 特點 |
經過證明的 Pinnacle 性能和可靠性 最大的工藝效率——最低的運行和安裝成本 通用性——在濺射工藝和偏壓套用上均表現出色 快速、可配置的弧反應——弧損傷少 精確的工藝控制 多種顯示/控制選擇 符合安全/輻射標準 | 業界最高的效率和功率因素 緊湊——在一個 2-U、1/2支架封裝中,功率達 3000W 單輸出抽頭,疲憊範圍廣泛 Profibus 和 RS-232 串列通信 靶材處理時間——最大限度地縮短新靶材的處理時間 僅400 VAC 輸入 存儲能量低——每千瓦輸出不到6 mJ 在大於15%的功率下,輸出重複性為±0.1% Joule 模式——最最佳化的能量傳送 對輸出電平、擊穿電壓和工藝電壓的可程式限制 儲存設定自動保存 有 CE 標誌 |
優勢 | 特點 |
經過證明的 Pinnacle 性能和可靠性 最大的工藝效率——最低的運行和安裝成本 通用性——在工藝和偏壓套用上均表現出色 快速、可配置的弧反應——弧損傷少 眾多顯示/控制選項 精確的工藝控制 符合安全/輻射標準 | 業界最高的效率和功率因素 緊湊——在一個 3-U、1/2支架封裝中,功率高達 15kW 單輸出抽頭,匹配範圍廣泛 Profibus 和 RS-232 串列通信 靶材處理時間——最大限度地縮短新靶材的處理時間 水冷式 僅400 VAC 輸入 存儲能量低——每千瓦輸出不到6 mJ 在大於15%的功率下,輸出重複性為±0.1% Joule 模式——最最佳化的能量傳送 對輸出電平、擊穿電壓和工藝電壓的可程式限制 儲存設定自動保存 有 CE 標誌 |
優勢 | 特點 |
超載內置保護 可靠性和耐用性 快速反應時間 兼容性認證 | 多級弧抑制及滅弧 用戶I/O接入 功率、電流或電壓調節功能 |
優勢 | 特點 |
針對標準 Z 和低 Z 套用的兩種配置 高頻開關電路從線路到負載的效率超過90% Arc-Out™ 抑制電路 常用作直流磁控濺射電源 | 尺寸小 輸出紋波很低 可調節抑弧 |
優勢 | 特點 |
絕佳的填隙 一流的表面均勻性 降低了附加消耗 強有力的監控 減少了無塵室空間要求 廣泛的配置選擇 | 通用波形形成 多達三個獨立控制的通道 雙極脈衝直流電輸出,0-5kHz 高電流能力 四終端控制和晶圓的電壓測量 主機接口 緊湊型封裝 |
優點 | 功能 |
恆功率、電壓或電流輸出 最高的靈活性與模組性 強大的電弧控制 自動製程保護裝置 極寬的祖抗匹配範圍 高功率密度 | 5 kW 和 10 kW 選項(主/從 至多達到60 kW) 內部負載匹配(10:1 阻抗範圍) 兩種不同的弧處理電路 高效能、緊湊型水冷式設計 多種可選配件 符合 CE 標準 |
優點 | 功能 |
可達到目前市場上可獲得的最低反射功率 | 空冷式設計 多功能前面板 脈衝模式:0到 10kHz 更完善的操作功能表 2個模擬用戶連線埠 RS-232 接口、乙太網接口及 PROFIBUS 接口 |
優勢 | 特點 |
消除了陽極消失的現象 便於對現有的單陰極系統進行改進 減小了系統的空間要求 能夠實現高速率的介質反應濺射 確保了均勻的沉積率 促進電力的有效使用,簡化維護 成本低於雙陰極結構 幾乎消除了弧 | 單陰極結構 自清洗雙陽極 低頻直流電源輸入 基材偏壓 便於改進的設計 |
優勢 | 特點 |
更靈活 產量更高 減少當機時間 吞吐量提高 | 寬阻抗匹配低頻率正弦工藝電源 大功率電源——最大180kW 功率 專為等離子環境而設計 |
優勢 | 特點 |
加強了工藝控制 最大限度地減小反射功率 加速反應時間 有助於提高工具吞吐量和產量 | 數碼匹配平台 多種數碼調諧算法 實時過程功率和阻抗測量與分析 整合式儀器 簡化的設計 嚴格的測試 基於 PC 的監控軟體 |
優點 | 功能 |
擁有更強的靈活性,可在更廣的阻抗範圍內進行功率匹配操作 Greater process productivity Easy integration and control | 空冷式設計 可變真空電容器 多種匹配接頭, 阻抗範圍非常廣 Automatic, manual, and pre-set modes Plug-and-play operation High-performing components Reliable connectors Wide impedance range Digitally controlled tuning with intelligent motor driver technology DC bias measurement circuit |
優點 | 特點 |
憑��卓越的功率輸送精度,實現前所未有的薄膜均勻度與傳送效能(throughput)的最最佳化 以更快的製程轉換來支持新一代蝕刻與沉積製程 幫助實現無縫的製程轉換 提高產量 實現投資回報最大化< | 新一代測量系統能夠在所有輸出範圍內(50歐姆和非50歐姆負載)對功率和阻抗進行極精確的測量 近乎瞬間的頻率調諧(可選) 可選脈衝和同步脈衝的脈衝頻率範圍很寬廣 可選的 HALO(高精確度、低輸出)及弧管理系統 緊湊半機架型外觀設計 |
優勢 | 特點 |
更高的功率密度 更好的工藝靈活性 產量提高 持有成本降低 簡化工藝工具整合 靈活的通信 | 簡化的設計 真空室安裝、框架安裝、支架安裝和鞋盒式 (shoebox) 選擇 寬頻控制迴路和可選的高重複率脈衝 業界領先的弧管理 符合監管要求 |
優勢 | 特點 |
提高了 run-to-run 準確性 具有通用性 提高了可靠性 增強了工藝靈活性 降低了持有成本 | 可定製的頻率調諧參數 輸出頻率範圍為1.765-2.165 MHz 3、5和8 kW 的輸出功率電平 數字合成頻率輸出 微處理器控制 |